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美國ITC擬對半導體化學漿料Optiplane發出進口禁令 對英特爾影響大

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科技產業資訊室 (iKnow) - May 發表於 2021年12月10日
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圖、美國ITC擬對半導體化學漿料Optiplane進口禁令 對英特爾影響大
 
美國國際貿易委員會(ITC)擬停止化學機械平坦化漿料(chemical mechanical planarization slurries, 市場行銷產品名稱Optiplane) 繼續被進口到美國境內出售。該案被告杜邦的羅門哈斯(Rohm&Haas)部門在臺灣和日本生產這些產品,被指控侵犯了總部位於伊利諾伊州的CMC Materials Inc.擁有的專利技術US 9,499,721(Colloidal silica chemical-mechanical polishing composition)。針對該調查案(337-1204),ITC原定於12月9日晚宣佈其最終決定,但推遲到12月16日再宣布。
 
英特爾告訴ITC委員會:「若沒有24個月過渡期,直接禁止美國半導體晶片製造生產所需的Optiplane漿料,可能與國家安全和經濟利益相衝突。」如果該ITC禁令獲得批准,原本一場不起眼的法律爭議可能會成為影響美國半導體生產的重大變數。

本案起始於2020年7月,ITC正式立案對某些化學機械平坦化漿料及其成分進行調查(337-1204)。該調查係基於原告Cabot Microelectronics Corporation (2020年10月,公司更名為「CMC Materials, Inc.」)於2020年6月1日提起的投訴,主張被告們進口到美國境內銷售的化學機械平面化產品時違反關稅法第337條,侵犯原告專利所保護的泥漿及其成分。投訴人請求美國國際貿易委員會發出有限排除令和停止令。

美國國際貿易委員會在該調查案中確定了以下被訴者:
  • DuPont de Nemours, Inc.,位於德國威爾明頓;
  • Rohm and Haas Electronic Materials CMP Inc. of Newark, DE;
  • 台灣桃園市羅門哈斯電子材料 CMP Asia Inc. (d/b/a Rohm and Haas Electronic Materials CMP Asia Inc., Taiwan Branch (USA));
  • 台灣苗栗羅門哈斯電子材料亞太有限公司;
  • 日本東京羅門哈斯電子材料株式會社;和
  • 馬薩諸塞州馬爾堡的羅門哈斯電子材料有限責任公司。
本案調查技術最後判定構成侵權,指出被訴人產品Optiplane利用CMC最先進的二氧化矽粒子技術,而研磨液即是透過二氧化矽粒子以研磨半導體層,CMC旗下iDiel系列產品也是採用這種技術。調查期間,一名ALJ法官表示,在海外製造的元件侵犯了Cabot的專利,並駁回了杜邦主張該專利無效的論點。
 
英特爾表示,在半導體製程的不同步驟中,都會使用到化學機械研磨液,且只要使用的研磨液不同,即使僅有細微差異,也會對產線造成極大影響。尤其全球正面臨嚴重的半導體短缺影響迫使各行業減產,此ITC禁令恐將嚴重打擊全球經濟。尤其,該ITC禁令對英特爾的傷害可能遠大於英特爾競爭對手所面臨的傷害,因為英特爾的半導體工廠多在美國境內。反而其競爭對手半導體工廠多位於亞洲,將不會受到此ITC禁令的影響。
 
雖然ITC最後判定被告產品侵權,但處理本案的ITC律師考量公共利益後,也支持英特爾將該ITC判決進口禁令推遲24個月的呼籲,認為這將讓英特爾有足夠的時間來調整製程,以過渡到可接受的非侵權替代品。然而,原告CMC Materials表示,英特爾和杜邦只是以晶片短缺為藉口,以避免進口禁令。(866字;圖1)


參考資料:
Intel Warns Chip Shortage to Worsen if U.S. Bans Imports of Compound. Bloomberg, 2021/12/10.
USITC INSTITUTES SECTION 337 INVESTIGATION OF CERTAIN CHEMICAL MECHANICAL PLANARIZATION SLURRIES AND COMPONENTS THEREOF. USTIC, 2020/7/1. 



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