日本光學儀器製造大廠尼康公司（Nikon），4月24日宣布在荷蘭海牙、德國曼海姆及日本東京地方法院，以多達11項歐洲專利和2項日本專利（專利清單參見表一整理），對荷蘭半導體設備大廠艾司摩爾（ASML Holding NV）及其合作夥伴，德國光學儀器公司卡爾蔡司（Carl Zeiss SMT GmbH），提起專利侵權訴訟，主張兩家公司在未經許可下，將尼康所研發之浸潤式光刻（immersion lithography）專利技術，使用在艾司摩爾製造販售的晶圓光刻機系統（stepper）上，並尋求對前述產品發布禁售令和侵權損害賠償。光刻機設備產品，占有艾司摩爾公司2016年營業額約76.3％，約35億歐元。
光刻技術（lithography）將電路圖影像投射在晶圓晶片上進行曝光，為微機電、光電、二極體大規模積體電路生產流程中的關鍵技術，故光刻機系統設備為半導體製造業和相關先進製程中不可或缺的設備，具有極高附加價值，售價在3000萬至5億美元不等，研發週期長，投入資金也相對巨大。艾司摩爾及尼康公司，是世界上唯一製造販售浸潤式光刻機系統之廠商。
三方曾談判授權協議：
- 尼康公司於2004年與艾司摩爾及卡爾蔡司公司達成一項專利交叉授權協議。尼康同意授權在2000年研發之浸潤式光刻技術專利，達成期限至2009年12月31日之專利授權，兩家公司共支付尼康約1.45億美元權利金。
- 2010年1月1日，雙方啟動延長交叉授權談判，並同意至2014年12月31日之前的過渡期間，不採取法律行動來主張專利權。
- 2016 年底所舉行之調解協商未獲具體結果成為引發本波訴訟之主因；艾司摩爾方面則聲稱尼康侵權指控毫無事實根據，並表示已多次嘗試協商延長協議，然尼康公司並未認真進行談判，而是積極籌備法律訴訟事宜。
表一、Nikkon提出本案系爭專利
| 訴訟地點 |
系爭專利 |
被告 |
| 荷蘭海牙地方法院 |
EP 1598855 |
荷蘭艾司摩爾公司 |
| EP 1652003 |
| EP 1881521 |
| EP 2157480 |
| EP 2264531 |
| EP 1598855 |
| EP 2717098 |
| EP 2752714 |
| EP 2765595 |
| EP 2808737 |
| EP 2937734 |
| 德國曼海姆地方法院 |
EP 1881521 |
德國卡爾蔡司公司 |
| EP 2157480 |
| 日本東京地方法院 |
JP 4604452 |
荷蘭艾司摩爾公司 |
| JP 5708546 |
Source：科技政策研究與資訊中心—科技產業資訊室整理，2017/5
ASML + 卡爾蔡司 提出反擊
2017年4月28日，ASML官方新聞稿透露，已聯合卡爾蔡司公司，反控尼康公司侵害其超過10項專利，其中可確認有兩件侵權訴訟在美國加州中區聯邦地方法院發起，共計有11項美國專利（見表二整理），並涉及半導體製造設備、平板顯示器製造設備及尼康數位相機感測裝置等廣泛產品。
表二、ASML在美國反控尼康侵權案件
| 案號 |
系爭專利 |
地點 |
被告 |
| 2:17-cv-03225 |
US 6,301,440
US 6,463,163
US 6,714,241
US 6,731,335
US 6,834,128
US 7,297,916
US 7,933,454 |
加州中區聯邦地方法院
|
Nikon Corp.
Nikon Inc.
Sendai Nikon Corp. |
| 2:17-cv-03221 |
US 8,149,312
US 8,625,017
US 7,209,167
US 6,972,792 |
Source：科技政策研究與資訊中心—科技產業資訊室整理，2017/5
本案原告尼康公司，位於日本東京千代田區，是一家日本大型光學儀器製造商，主要致力於光學和影像產品研發。近年來，由於光刻機等半導體設備銷售成績顯著不敵荷蘭艾司摩爾，以及數位相機業務急遽萎縮，致使公司陷入虧損狀態，故正進行裁員動作，並計畫將以數位相機、半導體設備事業為中心，來進行結構性改革措施。
本案被告荷蘭的艾司摩爾（ASML）於1984年，從荷蘭飛利浦獨立而成立，是歐洲半導體設備製造大廠，也是全球最大晶片微影設備供應商，全球十大半導體廠皆為ASML 的客戶。所研發之TWINSCAN系列是應用最廣泛的光刻機系統設備型號，受到大客戶採用：英特爾，三星、海力士（Hynix）、台積電、聯電、格羅方德（GlobalFoundries）等。艾司摩爾公司亦積極與IBM等半導體公司合作，開發EUV（極紫外光）下一代光刻機技術及設備，用於22奈米或更低製程積體電路製造。2016年6月16日ASML以新台幣1000億元收購台商漢微科。
本案動機，除專利交叉授權糾紛之外，亦涉及雙方市場競爭關係。目前，艾斯摩爾在EUV光刻機為主力的高階光刻機產品市場已取得約90%全球市佔率，中高階產品部分則占約60%市場，主要競爭對手尼康、佳能（Canon）以較低廉價格搶單。(1128字；圖1)
參考資料
ASML files patent countersuit against Japan's Nikon, NASDAQ網站, April 28, 2017,
http://www.nasdaq.com/article/asml-files-patent-countersuit-against-japans-nikon-20170428-00312
ASML Files Patent Infringement Lawsuits Against Nikon - ASML Forced to Go to Court After Nikon Fails to Seriously Negotiate, ASML官方新聞稿, April 28, 2017
https://www.asml.com/press/press-releases/asml-files-patent-infringement-lawsuits-against-nikon-asml-forced-to-go-to-court-after-nikon-fails-to-seriously-negotiate/en/s5869?rid=55391
ASML Expresses Disappointment That Nikon Has Opted for Unnecessary and Unfounded Legal Action Over Patents, ASML官方新聞稿, April 24, 2017
https://www.asml.com/press/press-releases/asml-expresses-disappointment-that-nikon-has-opted-for-unnecessary-and-unfounded-legal-action-over-patents/en/s5869?rid=55354
ASMLおよびCarl Zeissに対する半導体露光装置に関する特許侵害訴訟の提起について，2017年4月24日PRESS RELEASE/報道資料
http://www.nikon.co.jp/news/2017/0424_01.htm
Nikon Initiates Global Legal Actions Against ASML and Carl Zeiss to Protect Patented Semiconductor Lithography Technology, Nikon官方新聞稿，April 24, 2017
http://www.nikon.com/news/2017/0424_01.htm
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