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奈米ALD專利訴訟 Ultratech控告Ensure Nanotech

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科技產業資訊室 (iKnow) - May 發表於 2014年12月18日
2014年12月5日,德拉瓦州註冊公司Ultratech Inc.於加州北區聯邦地方法院分別提告Ensure Nanotech (Beijing), Inc.、Ensure Nanotech LLC/D/B/A、Ensure Scientific Group LLC及 Dongjun Wang侵權,Ultratech Inc.主張被告侵犯其所擁有一件專利US8,202,575,有關改善原子層沈積(Atomic Layer Deposition, ALD)系統的方法,違反35 U.S.C. §271侵權行為。提出:(1)PATENT INFRINGEMENT (2)MISAPPROPRIATION OF TRADE SECRETS (3) UNFAIR COMPETITION (4) BREACH OF CONTRACT
 
本案系爭專利US8,202,575 [Vapor deposition systems and methods],原始專利權人Cambridge Nanotech, Inc.。藉由企業併購併入Ultratech。
Ensure Nanotech 公司執行長Dongjun Wang早期是Ultratech在中國代理商Start Science (Beijing) Co., Ltd.公司,後來另外成立Ensure Nanotech公司專門利用Ultratech專利設計出產品並銷售到美國各大學,以致遭受Ultratech控告違反合約行為。
 
總部位於美國加州Ultratech 公司成立於1979年,是一家從事光刻、鐳射加工設備以及高亮度LED的供應商。於2012年12月19日宣佈成功收購Cambridge Nanotech公司,取得原子沉積技術(atomic-layer deposition, ALD)技術。Cambridge Nanotech是最早開發ALD技術,在世界居領先地位。
 
ALD技術是一種精確沉積奈米薄膜,在製造業、微機電系統、生物醫療、電池、能源等領域的需求量非常大。Ultratech公司宣稱擁有了ALD技術後,將會擴大該公司奈米技術的優勢以及智慧財產權的數量,解決電子製造業的一些難題,並且依靠技術優勢打入新市場,例如生物醫療以及能源領域。(680字;表2)
 
表一、系爭專利資料
專利名稱 Vapor deposition systems and methods
公告號 US 8202575 B2
出版類型 授權
申請書編號 US 11/167,570
發佈日期 2012年6月19日
申請日期 2005年6月27日
優先權日期 2004年6月28日
其他公開專利號 CN101684550A
發明人 Douwe J. Monsma, Jill S. Becker
原專利權人 Cambridge Nanotech, Inc.
圖示
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Source: 科技政策研究與資訊中心 — 科技產業資訊室整理,2014/12
 
 
表二、專利訴訟案件基本資料:Ultratech Inc.控告Ensure Nanotech (Beijing)專利侵權
訴訟名稱 Ultratech, Inc. v. Ensure Nanotech (Beijing) et al
提告日期 2014/12/5
原告 Ultratech, Inc.
被告 Ensure Nanotech (Beijing)Dongjun WangEnsure NanoTech LLC d/b/a Ensure Scientific Group LLC
案號 5:14-cv-05361
訴訟法院 California Northern District Court
爭議專利 US 8202575
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Source:科技政策研究與資訊中心—科技產業資訊室整理,2014/12
 
本網站相關連結:Atomic Precision System指控Jusung等4家廠商侵犯其原子層沉積技術

 
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