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三星新晶圓廠採用7奈米EUV微影技術投入量產

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科技產業資訊室 (iKnow) - May 發表於 2020年2月21日

圖、三星新晶圓廠採用7奈米EUV微影技術投入量產
 
三星電子在副董事長李在鎔2020年2月20日在視察V1新廠後,宣布三星7奈米製程採用EUV極紫外光微影技術的半導體晶圓新廠,已開始量產。
 
三星表示,在南韓華城市的V1廠採用7奈米製程世代生產晶片,第一批7奈米產品將在今年(2020)3月交付給客戶。三星表示,V1廠目前以7奈米與6奈米製程技術生產行動晶片,未來將有3奈米製程。三星電子認為,EUV製程緊跟全球晶圓代工龍頭台積電(TSMC)至關重要。
 
截至今年(2020)底,V1廠的累計總投資金額將達到60億美元,而將來能夠完成一條完整生產線,則其總投資額有望達到20兆韓元(約168億美元)其實,EUV微影設備的V1廠在2018年2月開工興建,並於2019年下半年投入晶圓試產。
 
三星去年宣布,到2030年將投資133兆韓元(相當於1110億美元)擴大非記憶體和晶圓事業,也就是加大系統半導體投資。所謂系統半導體(System Semiconductors)大致分為:基於CPU的微型零組件、基於AP的邏輯IC,模擬IC和光學半導體市場。目前,雖然英特爾領先於CPU市場,而高通和德州儀器分別是移動AP和模擬IC市場的領先公司。但是,未來市場很巨大,其他業者及三星電子仍有機會切入。
 
南韓總統文在寅於2019年在參訪三星電子京畿道華城廠,曾宣示政府培植系統半導體的決心,2030年達三項目標,就是成為全球晶圓代工第一、無晶圓 (也就是晶圓設計) 全球市佔達10%,及積極培植非記憶體技術搶全球市場。文在寅總統表示,政府將擴大半導體領域的投資。自明年(2020)起,政府將啟動一項價值1兆韓元的半導體技術發展計畫,並保住領先技術以轉移到下世代半導體技術,政府會鼓勵大學設立半導體系所,培育工程師。
 
為追趕台積電及英特爾在下一代半導體,拉開與中國大陸半導體技術的距離,還有受制於日本關鍵材料的限制,南韓三星電子正在調整半導體策略。(612字;圖1)
 
 
參考資料:
Samsung Vice Chairman Lee Shows Strong Will to Rise to Top in System Semiconductors. Business Korea, 2020/2/21.
三星電子『Vision 2030』非記憶體半導體投資戰略,正在逐步成形。科技產業資訊室(iKnow),2020


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