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台積電全球第一以EUV導入N7+、助攻客戶產品大量進入市場

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科技產業資訊室 - May 發表於 2019年10月8日

圖、台積電N7+製程已協助客戶產品大量進入市場 

台積公司今(2019.10.7)日宣布,其領先業界導入極紫外光(EUV)微影技術之7奈米強效版(N7+)製程已協助客戶產品大量進入市場。導入EUV微影技術的N7+奠基於台積公司成功的7奈米製程之上,為6奈米和更先進製程奠定良好基礎。
 
N7 +的量產速度為史上量產速度最快的製程之一,於2019年第二季開始量產,在7奈米製程技術(N7)量產超過一年時間的情況下,N7+良率與N7已相當接近。N7 +同時提供了整體效能的提升,N7 +的邏輯密度比N7提高了15%至20%,並同時降低了功耗,成為業界下一波產品中更受歡迎的製程選擇。
 
EUV微影技術使台積公司能夠持續推動晶片微縮,因EUV的較短波長能夠更完美地解析先進製程的設計。台積公司的EUV設備已達成熟生產的實力,EUV設備機台亦達大量生產的目標,在日常運作的輸出功率都大於250瓦。
 
N7+的成功經驗是未來先進製程技術的基石。台積公司的6奈米製程技術(N6)將於2020年第一季進入試產,並於2020年底前進入量產。隨著EUV微影技術的進一步應用,N6的邏輯密度將比N7提高18%,而N6憑藉著與N7完全相容的設計法則,亦可大幅縮短客戶產品上市的時間。
 
2019年,台積公司全球總產能超過1,200萬片之12吋晶圓約當量,台積公司並提供最廣泛的製程技術,全面涵蓋自(大於)0.5微米製程至最先進的製程技術,即現今的7奈米製程,也是全球第一家提供7奈米製程技術為客戶生產晶片的專業積體電路製造服務公司。(520字;圖1)
 
 
參考資料:
台積公司領先業界以EUV微影技術之7奈米強效版製程協助客戶產品大量進入市場。台灣積體電路製造股份有限公司,2019/10/07。


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