半導體設備廠ASML獲得英特爾挹注資金
科技產業資訊室 (iKnow) - Kyle 發表於 2012年7月16日
隨著半導體製程技術不斷向上演進,為了降低設備廠商的風險,荷蘭半導體設備供應商艾司摩爾(ASML)向英特爾、台積電、甚至三星提出入股邀約。英特爾於2012年7月10日宣佈將投資41億美元,期望設備廠商能夠及早將下一代晶片製程技術所需的半導體設備研發出來,以提早進入18晶園廠所需的半導體設備 。 |
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請客戶來投資供應商是一個很怪的邏輯,但是現在就在半導體產業中上映。根據英特爾與艾司摩爾的共同聲明指出,英特爾將投資25億歐元(約31億美元)以獲得15%的艾司摩爾股份;此外,又將投資8.29億歐元(約10億美元)於艾司摩爾於半導體設備研發的工作。同時英特爾也承諾將向艾司摩爾採購450毫米與極紫外線的開發與製造工具。
艾司摩爾表示,其原本預計出售高達41.9億歐元(相當於51.5億美元)的25%的股權。現在英特爾已經確定獲得15%,那麼剩下的10%,就是由台積電或者三星可以獲得!根據台積電表示,他們還在進行相關評估的工作。
英特爾共同創辦人摩爾於1965年所提出的摩爾定律,經過50年似乎仍舊有效。可是近年來隨著智慧型手機的起飛,英特爾原本在PC產業的風光卻不能延續到智慧型手機甚至平板電腦之上。為了追求低耗電且高性能的晶片,英特爾希望能夠以其半導體先進製程技術來彌補其與ARM公司之間的差距。
艾司摩爾是全球最大半導體微影設備供應商。微影設備主要是處理晶圓製造過程中的蝕刻工作。隨著晶片微縮愈來愈精細,因此,微影技術機器的研發費用不斷提高,而且造價昂貴,因此藉由與英特爾的協議分散開發先進半導體設備的風險,成為艾司摩爾的優先選擇。
根據艾司摩爾,目前製造一台微影設備估計成本高達6千萬美元,如果想要研發下一代極紫外光技術的微影設備,預估每一台設備的成本將高達1億多美元。由於未來半導體晶片廠商中,英特爾、三星電子與台積電是最需要這樣設備的業者,因此尋求客戶投資是艾司摩爾的策略。
根據英特爾聲稱,一旦其投資艾司摩爾,將令極紫外光技術以及18吋晶圓製造設備推出時間加快兩年之多。(807字)
圖一、ASML enhanced development roadmap
Source : ASML,2012年7月
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