Microlithography也就是整合一群微米或次微米技術在矽晶圓和其他的材料上﹐是電子學工業的一種關鍵技術﹐而且在生命科學及其他產業扮演重要的角色。光學蝕刻影技術(Optical lithography)已具有數10億美市場的技術﹐但是當電晶體和其他的 microdevices 的尺寸縮小至奈米級，未來市場競賽是開發出下一世代 奈米級microlithography技術。
圖一: 全球微蝕刻技術儀器和供給市場規模 (US$billion)
| 類別 |
2002 |
2003 |
2004 |
2008 |
AAGR % |
| Exposure/write tools |
4.50 |
5.10 |
6.20 |
10.00 |
10.0 |
| Masks |
2.90 |
3.10 |
3.50 |
6.70 |
13.9 |
| Post-exposure processing equipment |
18.10 |
18.20 |
25.10 |
43.10 |
11.4 |
| Supplies and consumables |
3.44 |
4.04 |
4.54 |
10.18 |
17.5 |
| Total |
28.94 |
30.44 |
39.34 |
69.98 |
12.2 |
依據BCC發表報告" Semiconductor Microlithography: Markets for Technologies and Materials", 全球微蝕刻技術儀器和供給市場，包括半導體和其他蝕刻技術應用，估計在 2003 年304億美元，較2002年成長5%。在 2004 年﹐當半導體市場恢復元氣，microlithography 市場預估增加到390億元，較2003年成長 29%。在 2004 和 2008市場預估以平均年成長率12.2%，至2008 年達700億美元，如圖一。
後暴露處理儀器(Post-exposure processing equipment)在 2003 年以幾近 60% 佔有 microlithography 市場。其次是暴露／寫入工具(Exposure/write tools)佔 17% 的市場，供給和消耗品(supplies and consumables) 佔13%的市場，光罩(photomasks) 佔10%的市場。這些市場百分比將維持大致不變至2009年，後暴露處理儀器將微擴張到 62% 的市場，供給和消耗品微增至 15% 的市場。 暴露工具預料將微降市場佔有率至14%，而光罩也將微降至9%。從以上數字分析來看，包含半導體和非半導體應用微蝕刻技術。整體而言﹐2003 年半導體工業佔有77% 的市場。 然而﹐由於非半導體部門的迅速成長﹐這百分比將於2008年衰退到 63% 。 北美地區在 2003年估計佔 28% 的全球市場，日本26%次之，隨之亞洲其他國家韓國和台灣佔24%。然而2003 年受市場低迷影響，特別在韓國和台灣造成不少衝擊，預估至2008年﹐除了日本之外的亞洲市場將以27.1%佔有率取回他們的市場，日本應該保持26.6% 的市場，而北美地區在 2008 年滑落至25% 的全球市場佔有率。 (Source: BCC 2004/02/03 )
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