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EV GROUP在奧地利企業總部完成最先進無塵室設施興建

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EV GROUP 新聞稿 發表於 2020年7月22日

圖、EV Group的五號無塵室設施的先進附屬製造無塵室(sub-fab),用以確保最高的妥善率與全新的安全功能

微機電系統(MEMS)、奈米科技與半導體市場的晶圓接合暨微影技術設備之領導廠商EV Group(EVG)宣布已經在奧地利的企業總部,完成全新五號無塵室大樓的興建。全新的大樓從頭到尾採用最新無塵室設計與建築技術,並讓EVG總部的無塵室產能幾乎增加一倍,未來將用於開發產品與製程的展示設備、開發原型機和試量產的服務。五號無塵室大樓是去年宣布的3,000萬歐元投資的一部份,預計將於八月正式啟用。

全新的五號無塵室大樓直接與EVG現有的無塵室及應用實驗室相連,可以提供約620平方公尺十級無塵室的額外樓板空間。新大樓同時設有可在EVG設備平台上訓練客戶與工程師的多個專屬區域的現代化訓練中心。這次的擴大投資也包含現有的無塵室與應用實驗室設施的升級,並確保最高的妥善率與全新的安全功能。

強化EVG的核心技術
全新的五號無塵室大樓增加的產能,將強化EVG提供世界級製程開發服務的NILPhotonics®技術中心與異質整合(Heterogeneous Integration)技術中心™的能力,並為微電子供應鏈的客戶與合作夥伴,提供開放的創新育成中心。透過這些卓越的核心技術,EVG協助客戶加速技術開發、將風險降至最低,並利用奈米壓印微影技術與異質整合,協助開發出具差異化的技術與產品,同時確保發表產品前所需的最高智慧財產(IP)保護標準。

EV Group技術開發和IP總監Markus Wimplinger表示:「我們對於興建這座全新無塵室所涵蓋的技術創新與專業知識,感到非常自豪。從整座建築到最微小的細節,這可謂一座真正世界級、最先進的設施,可以說是與一些歐洲技術最先進的無塵室平起平坐。對於EVG而言,這座新設施將大幅強化我們與客戶共同開發未來應用與技術的能力,我們認為它將讓近來特別活躍且需求極高的技術中心受益。我們的NILPhotonics與異質整合技術中心提供的獨特服務,讓我們的客戶與合作夥伴得以縮短開發週期,並在這些關鍵的應用領域打造出卓越的產品。」

 
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