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根據英特爾最新公佈的新聞顯示，英特爾 45 奈米 Penryn 處理器家族將在 2007 年下半年推出，而代號為 Nehalem 的下一代 45 奈米處理器按計劃將在 2008 年進入量產階段。
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以微處理器產業來說，製程愈小，線路就愈細，在同樣面積的晶片上就能塞進更多線路，使晶片更快更省電。目前英特爾微處理器的先進製程在 65 奈米，為了加快腳步拉大與超微之間的差距，其 45 奈米微處理器就快推出了。
| 表一、 Penryn 處理器家族設計的目的 |
- Increase Performance per given clock cycle
- Increase Processor frequencies
- Extend energy efficiency
- Deliver lead product for 45nm High K+ metal gate process technology
- Deliver optimized processors across each product segment and power envelope
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Source : Intel ， 2007 年 3 月
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與 65 奈米製程技術相比，英特爾 45 奈米 High-k 處理技術可以將電晶體的效能提高將近一倍，將電晶體轉換速度可提升 20% ，此外還可以減少電晶體的漏電量的問題。
以目前英特爾的計畫，目前共有超過 15 款 45 奈米 High-K 產品納入了開發計劃之中，為了實踐摩爾定律，英特爾預計在 2007 年年底之前設立兩座 45 奈米工廠，到了 2008 年下半年，進入量產階段的 45 奈米工廠將增加到 4 座。而根據目前所得到的訊息，超微與 IBM 的 45 奈米產品一直要等到 2008 年才會面世，這使得英特爾有足夠的時間搶佔市場佔有率。
以英特爾公佈 Penryn 處理器的目的來看，不僅希望能夠加足馬力追求處理器高時脈，也期待 45 奈米製程能讓處理器更節省功耗。
至於，在 2008 年推出的 Nehalem 處理器，引人注意的是，這是首次將記憶體控制單元內建至微處理器晶片 ，讓處理器與電腦記憶體的互動更快更有效率。
此外， Nehalem 將可內建八核心或甚至更多。有些核心將負責繪圖、網路，這與超微預計將繪圖核心內建於處理器的想法不謀而合。
這是 1996 年之後，晶片設計最大的變革，超微也認為此一設計對其威脅頗大，那就看超微如何接招了。（ 707 字）
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