2014年12月5日，德拉瓦州註冊公司Ultratech Inc.於加州北區聯邦地方法院分別提告Ensure Nanotech (Beijing), Inc.、Ensure Nanotech LLC/D/B/A、Ensure Scientific Group LLC及 Dongjun Wang侵權，Ultratech Inc.主張被告侵犯其所擁有一件專利US8,202,575，有關改善原子層沈積(Atomic Layer Deposition, ALD)系統的方法，違反35 U.S.C. §271侵權行為。提出：(1)PATENT INFRINGEMENT (2)MISAPPROPRIATION OF TRADE SECRETS (3) UNFAIR COMPETITION (4) BREACH OF CONTRACT
本案系爭專利US8,202,575 [Vapor deposition systems and methods]，原始專利權人Cambridge Nanotech, Inc.。藉由企業併購併入Ultratech。
Ensure Nanotech 公司執行長Dongjun Wang早期是Ultratech在中國代理商Start Science (Beijing) Co., Ltd.公司，後來另外成立Ensure Nanotech公司專門利用Ultratech專利設計出產品並銷售到美國各大學，以致遭受Ultratech控告違反合約行為。
總部位於美國加州Ultratech 公司成立於1979年，是一家從事光刻、鐳射加工設備以及高亮度LED的供應商。於2012年12月19日宣佈成功收購Cambridge Nanotech公司，取得原子沉積技術(atomic-layer deposition, ALD)技術。Cambridge Nanotech是最早開發ALD技術，在世界居領先地位。
ALD技術是一種精確沉積奈米薄膜，在製造業、微機電系統、生物醫療、電池、能源等領域的需求量非常大。Ultratech公司宣稱擁有了ALD技術後，將會擴大該公司奈米技術的優勢以及智慧財產權的數量，解決電子製造業的一些難題，並且依靠技術優勢打入新市場，例如生物醫療以及能源領域。(680字；表2)
表一、系爭專利資料
| 專利名稱 |
Vapor deposition systems and methods |
| 公告號 |
US 8202575 B2 |
| 出版類型 |
授權 |
| 申請書編號 |
US 11/167,570 |
| 發佈日期 |
2012年6月19日 |
| 申請日期 |
2005年6月27日 |
| 優先權日期 |
2004年6月28日 |
| 其他公開專利號 |
CN101684550A |
| 發明人 |
Douwe J. Monsma, Jill S. Becker |
| 原專利權人 |
Cambridge Nanotech, Inc. |
| 圖示 |
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Source: 科技政策研究與資訊中心 — 科技產業資訊室整理，2014/12
表二、專利訴訟案件基本資料：Ultratech Inc.控告Ensure Nanotech (Beijing)專利侵權
| 訴訟名稱 |
Ultratech, Inc. v. Ensure Nanotech (Beijing) et al |
| 提告日期 |
2014/12/5 |
| 原告 |
Ultratech, Inc. |
| 被告 |
Ensure Nanotech (Beijing)Dongjun WangEnsure NanoTech LLC d/b/a Ensure Scientific Group LLC |
| 案號 |
5:14-cv-05361 |
| 訴訟法院 |
California Northern District Court |
| 爭議專利 |
US 8202575 |
| 訴狀下載 |
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Source：科技政策研究與資訊中心—科技產業資訊室整理，2014/12
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